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劉勇:背面工藝優(yōu)化是工藝努力方向

   2012-12-14 SEMI12190
核心提示:晶澳太陽能CTO劉勇:背面工藝優(yōu)化是工藝努力方向PV技術(shù)趨勢首先是高效電池片和組件觀念的發(fā)展,尋求降低系統(tǒng)成本的最佳方法,增加單位


晶澳太陽能CTO劉勇:背面工藝優(yōu)化是工藝努力方向

PV技術(shù)趨勢首先是高效電池片和組件觀念的發(fā)展,尋求降低系統(tǒng)成本的最佳方法,增加單位面積的發(fā)電量;其次是降低材料成本,將硅的消耗量減少變成較薄的硅片,降低銀的成本;此外,背點接觸式的組件是可行的,減少電池到組件的功率損失(CTM)、得到較高的組件效率,可與超薄型硅片相容,減少電池的生產(chǎn)成本。

2012年大規(guī)模生產(chǎn)的單晶電池片效率可達到18.8%,而先進的生產(chǎn)線生產(chǎn)的單晶電池片效率達到19%-19.2%。當(dāng)N型電池片開始贏得市場份額時,P型電池片仍占據(jù)優(yōu)勢。以技術(shù)的角度來看,電池正面的優(yōu)化持續(xù)進行,但幾乎到達極限,背面工藝的優(yōu)化是現(xiàn)在工藝努力的方向。現(xiàn)今市場,功率決定了可銷售電池片的門檻,比率決定了有效產(chǎn)能和整體的電池成本影響。
 
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