5月15日，德國新格拉斯科技集團（簡稱SINGULUS）宣布將在2014年SNEC展覽會上展出用于CIGS緩沖層沉積工藝的TENUIS研發(fā)設(shè)備，包括：

- 用于PERC電池背面鈍化工藝的涂層設(shè)備：SINGULAR XP設(shè)備能使電池效率提高1%

- 新型PERC電池具有更高的轉(zhuǎn)換效率

- 用于緩沖層沉積工藝的TENUIS設(shè)備

- 成熟的CIGS生產(chǎn)設(shè)備

據(jù)介紹，該設(shè)備能夠?qū)⒖芍貜?fù)的工藝效果轉(zhuǎn)換為工業(yè)化生產(chǎn)。同型號的工業(yè)化生產(chǎn)設(shè)備擁有模塊化集群，所占面積較少，并能同時完成兩塊基板的單面涂層。新一代的TENUIS設(shè)備在高效CIS/CIGS薄膜電池的生產(chǎn)成本方面也擁有很大的優(yōu)勢。新一代的TENUIS設(shè)備在高效CIS/CIGS薄膜電池的生產(chǎn)成本方面也擁有很大的優(yōu)勢。

SINGULUS致力于研發(fā)濺射、蒸發(fā)、優(yōu)化CIGS吸收層的硒化工藝以及濕法處理的解決方案，其設(shè)備已涵蓋了生產(chǎn)CIS/CIGS電池組件所需的三分之二的工藝步驟。

在晶硅太陽能電池方面，SINGULUS將在2014年SNEC展覽會上展示背鈍化電池相關(guān)的先進生產(chǎn)方案。SINGULAR XP設(shè)備是專為標準電池生產(chǎn)線的產(chǎn)能而設(shè)計的。此外，設(shè)備在對電池背面進行氧化鋁（AlOx）和氮化硅（SiNx）涂層的工藝是在不間斷的真空環(huán)境下完成的。SINGULAR XP設(shè)備的結(jié)構(gòu)緊湊，非常適合引入現(xiàn)有的電池生產(chǎn)線進行升級。在進行背面涂層之前，電池要先在LINEA II拋光設(shè)備中進行濕法化學上光。電池背面的激光接觸工藝則交由SINGULUS的合作公司完成。

在德國聯(lián)邦環(huán)境局和多位項目合作伙伴資助的高屏研究項目中，德國埃默塔爾太陽能研究所成功將PERC電池的轉(zhuǎn)換效率提高至21.2%的創(chuàng)新紀錄。

德國新格拉斯科技集團介紹-技術(shù)的開發(fā)與創(chuàng)新

集團的目標是成為光盤、太陽能和半導(dǎo)體技術(shù)的領(lǐng)跑者，并利用其協(xié)同效應(yīng)在未來開辟新的工作領(lǐng)域。為此，集團將致力于開發(fā)經(jīng)濟的、可持續(xù)的并能有效利用資源的解決方案。

在光盤領(lǐng)域，SINGULUS將持續(xù)鞏固其在市場的領(lǐng)導(dǎo)地位，目前集團所提供的設(shè)備能夠生產(chǎn)存儲量為100GB的三層式藍光光盤。

在太陽能領(lǐng)域，SINGULUS為晶硅和薄膜太陽能電池提供創(chuàng)新的生產(chǎn)方案，在減少生產(chǎn)成本的同時提高電池的轉(zhuǎn)換效率。作為技術(shù)開發(fā)者和設(shè)備供應(yīng)商，集團致力于將太陽能發(fā)展為更具有可持續(xù)性、應(yīng)用更廣泛的可再生能源。

在半導(dǎo)體領(lǐng)域，集團專注于開發(fā)適用于生產(chǎn)MRAM存儲器、薄膜讀/寫頭和其它半導(dǎo)體應(yīng)用的超薄層晶片涂層技術(shù)。

新格拉斯科技表示，集團將持續(xù)拓寬其在真空涂層、自動化、工藝技術(shù)和生產(chǎn)線整合等方面的專有技術(shù)知識，以開辟新的工作領(lǐng)域。為此，集團將繼續(xù)開發(fā)專有的解決方案的開發(fā)以獲得內(nèi)在成長，同時尋求并購機遇促進外在的成長。